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離子注入后不退火行不行？

離子注入后都會退火，退火的作用是什么？不退火行不行？

離子注入對硅片造成哪些影響？

離子注入時，高能的雜質(zhì)離子加速撞擊硅片表面，將其動能轉(zhuǎn)化為熱能和位移能，引起硅原子的遷移和重排，破壞了硅的晶格結(jié)構(gòu)，會產(chǎn)生位錯、空位等缺陷。

另外，雜質(zhì)離子被注入進入硅中后，這些離子大多停留在晶格間隙中，并不能很精準地進入到對應(yīng)的晶格點陣位置，那么就很難起到改善硅導電性的摻雜作用。

離子注入后退火的作用？

離子注入后退火是必不可少的步驟，退火的作用有：

1，修復：退火工藝通過高溫，使硅原子獲得足夠的能量進行擴散和遷移，重新排列成有序的晶格結(jié)構(gòu)。原子在退火過程中逐漸移動到能量最低的位置，位錯、空位等逐漸減少直至消失，從而減少晶格中的缺陷和應(yīng)力。

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2，激活：退火使這些摻雜離子（As，P，B）在硅晶格中擴散，進入晶格點陣位置，與硅原子形成共價鍵，形成穩(wěn)定的摻雜原子。摻雜濃度分布均勻，電學活性提高，實現(xiàn)所需的導電特性。

文章來源：Tom聊芯片智造

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